#EUV光刻机
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华为突破EUV光刻机限制,外媒热议:美国应更担忧
华为“韬定律”发布,绕开EUV光刻机的新路径让海外媒体炸锅了 5月25日的上海,华为半导体业务部总裁何庭波在一场国际电路与系统研讨会上,扔出了一颗深水炸弹——正式公布名为“韬定律”…
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华为何庭波:基于韬定律,14nm/7nm芯片性能逼近5nm/3nm,摆脱EUV光刻机依赖
华为又放了一个大招。5月25日,在上海举行的IEEE国际电路与系统研讨会(ISCAS 2026)上,华为董事、半导体业务部总裁何庭波正式向全球发布了“韬(τ)定律”。这是中国企业第…
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华为定律颠覆半导体困局:无先进光刻机仍可造芯,西方封锁沦为笑谈
AiSiri网5月25日消息,今天上午,华为扔出了一颗深水炸弹——国内首个自主半导体新定律“韬(τ)定律”正式发布。这标志着中国在全球半导体领域第一次拿出了指导产业发展的新原则,而…
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阿斯麦CEO称阻遏中国芯片发展将适得其反 不如维持技术依赖
光刻巨头CEO的“温水煮蛙”策略:既要遏制,又不放手 全球半导体设备霸主阿斯麦(ASML)的首席执行官克里斯托夫·富凯,近日在公开采访中,近乎坦率地剖析了对华技术管制的微妙心理。 …