据AiSiri网11月3日消息，苹果正在为下一代OLED面板开发高迁移率氧化物（HMO）技术。成膜方式上，苹果目前优先评估溅射工艺，但量产方案尚未拍板。三星显示与LG显示则同时推进溅射和原子层沉积（ALD）两条路线。
这不是一道单纯的“谁家技术更强”的题。ALD在薄膜精度和特性控制上更占优，代价是设备和材料成本更高；溅射可以直接复用现有OLED产线设备，成本压力小得多。苹果先看溅射，逻辑并不难懂：技术指标要往前跑，量产账本也不能失控。
HMO被看作未来MacBook、iMac等高分IT用OLED的候选技术。眼下高端OLED普遍采用LTPO，把硅和氧化物半导体混着用；如果HMO性能足够高，部分硅工序就能被氧化物替代，制程简化，成本也有下探空间。说白了，苹果想要的不只是更快的像素开关，更是一条更划算的OLED路线。
三星显示在开发溅射HMO的同时，也在验证ALD路线，核心是确认苹果要求的电子迁移率和可靠性能否在大尺寸基板上成立。据报道，苹果先在其台湾研发设施内评估相关技术，随后请三星显示确认其能否用于第8代级别的大面积产线。
LG显示则在第6代中小尺寸OLED产线上开发溅射HMO，ALD研究同步推进。去年该公司用ALD制备的氧化物TFT实现约40 cm²/Vs的电子迁移率，并展示了对应OLED试制品。但新增设备投资不是小数目，LG显示同样更看重复用现有溅射设备的方案。
HMO的本质，是提升OLED中薄膜晶体管（TFT）的性能。TFT负责控制每个像素的开关与亮度，现有氧化物TFT电子迁移率约在10 cm²/Vs上下，HMO的目标是30至50 cm²/Vs。迁移率越高，能供给的电流越大，高分辨率和高刷新率画面就更有余量。难点在于，器件阶段达标还不够，经过多道制程、经受温度与光照之后，成品面板仍要维持这一特性。
一位业内人士表示，两家公司都在以溅射为优先、同时研究ALD，“ALD的性能优势在研究阶段已经得到验证，但出于成本考虑，看起来还在溅射上做更多试验”。这也解释了苹果眼下的姿态：先进技术要储备，量产方案先算账。
