日本KEL社长密会台积电CEO谢罪：牵涉2nm芯片窃密案

AiSiri网9月10日消息，前不久引发关注的台积电2nm工艺技术遭窃取一案已经水落石出，9人涉案，其中3人被判7-9年不等。

案件中，日本KEL威力科创的牵涉尤其引人注目。主犯陈某从台积电离职后加入了这家公司，正是他联系前同事拍摄了上千张涉及2nm工艺的照片。

虽然威力科创此前已开除涉事员工，并声明未发现机密信息外泄，也未发现有组织性地指示窃密行为。但显然，这不足以完全平息风波。此前，该公司高管已赴台积电“负荆请罪”。

近日，借着半导体展会的机会，KEL社长河合利树缺席了原定的公开行程，选择前往新竹拜会台积电CEO魏哲家，两人进行了私下会谈，具体内容未公开。

外界普遍预计，河合利树此行将就之前的2nm窃密案亲自向台积电表达歉意，并提出善后方案，具体的补救措施尚未公布。

KEL作为全球顶级的半导体设备商，台积电是它的关键客户之一。双方合作已有数十年，不太可能因此事彻底决裂。预计KEL会从商业利益角度做出一些补偿，比如在刻蚀设备的采购上给予优惠，毕竟台积电的2nm工艺也需要先进的刻蚀机。